Танталовый лист 8х170х100 мм ТВЧ в Хасавюрте

Воздействие высоких энергий, например, ионная имплантация, изменяет поверхностный слой танталового листа, формируя легированный слой. Это может улучшить его твердость, износостойкость, коррозионную стойкость или адгезию последующих покрытий за счет изменения химического состава и структуры поверхности.

При формировании биметаллических конструкций танталовый лист взаимодействует с другими металлами по-разному. Сплавление или сварка тантала с большинством металлов сложны из-за образования хрупких интерметаллидов. Часто применяют взрывную сварку или механическое соединение. Важно учитывать разницу в тепловом расширении.

Выбор толщины танталового листа прямо пропорционален его сроку службы в агрессивных химических реакторах. Большая толщина обеспечивает больший ресурс для равномерной коррозии, увеличивает механическую прочность конструкции, а также повышает устойчивость к локальным повреждениям, таким как абразивный износ или эрозия.

Танталовые листы, включая марки ТВЧ, ТВ-5 и ТВ-10, проявляют высокую коррозионную стойкость в условиях контакта с бромом и его соединениями. Тантал формирует на поверхности стабильную оксидную пленку, которая защищает его от воздействия галогенов, за исключением фтора и фторид-ионов.

Танталовый лист марки ТВЧ имеет более низкие прочностные характеристики при повышенных температурах по сравнению с легированными марками, такими как ТВ-5 или ТВ-10. Добавки вольфрама в сплавы повышают их жаропрочность, сопротивление ползучести и предел прочности при высоких температурах.

Различные виды отжига влияют на ковкость и пластичность танталового листа марки ТВЧ. Рекристаллизационный отжиг при высоких температурах (например, 1000-1300°C в вакууме) полностью снимает наклеп, восстанавливает пластичность и ковкость, делая материал пригодным для дальнейшей холодной обработки.

Для создания тонкопленочных покрытий методом вакуумного напыления используются танталовые листы высокой чистоты, такие как марка ТВЧ. Их применяют как мишени для магнетронного распыления или испарения, что обеспечивает получение высококачественных и однородных пленок.